PATTERN (動詞)
2014年05月01日
車馬駄馬田 at 08:00 | Comments(0) | pa...
目次はこちら
PATTERN (動詞)
$$ Using a known photolithographic and etching process, the silicon film 1 is then patterned into separate islands such as islands 1a and 1b for the separate TFTs. (USP5930609)
$$ The glass carrier 24 may be patterned (e.g. with trenches 26) to both limit the thermal heat loss from the pre-concentrator and to allow fluidic communication through the plane of the device to any substrates below. / ガラスキャリア24を(例えば、トレンチ26と共に)パタン化して、前濃縮装置からの熱損を抑えると共に、デバイスの平面を通って下側の基板と流体連通させることもできる。(USP7619265)
$$ To form individual devices a layer of resist (not shown), preferably positive resist is patterned to define an array of substantially circular resist masks. / 個々のデバイスを形成するために、レジストの層(図示なし)、好ましくはポジ・レジストの層が模様付けされ、実質的に円形のレジストマスクの配列が形作られる。(USP7598149)
$$ Here a light source is arranged in front of a patterned slide which has an array of apertures therein. / ここでは、光源は、開口のアレイを有するパターン化されたスライドの前に配置される。(USP7589825)
$$ Both electrical and mechanical patterning systems were used to identify the most simple yet versatile knitting structure design. / 電気的及び機械的なパターン化装置の双方を使用して、最も簡単であるが多目的の編み構造デザインを特定した。(USP6228312)
$$ Patterning processes, as described above, may also be used to pattern other circuitry components, such as, but not limited to, interconnects, resistors and capacitors. (USP7629261)
目次はこちら
PATTERN (動詞)
$$ Using a known photolithographic and etching process, the silicon film 1 is then patterned into separate islands such as islands 1a and 1b for the separate TFTs. (USP5930609)
$$ The glass carrier 24 may be patterned (e.g. with trenches 26) to both limit the thermal heat loss from the pre-concentrator and to allow fluidic communication through the plane of the device to any substrates below. / ガラスキャリア24を(例えば、トレンチ26と共に)パタン化して、前濃縮装置からの熱損を抑えると共に、デバイスの平面を通って下側の基板と流体連通させることもできる。(USP7619265)
$$ To form individual devices a layer of resist (not shown), preferably positive resist is patterned to define an array of substantially circular resist masks. / 個々のデバイスを形成するために、レジストの層(図示なし)、好ましくはポジ・レジストの層が模様付けされ、実質的に円形のレジストマスクの配列が形作られる。(USP7598149)
$$ Here a light source is arranged in front of a patterned slide which has an array of apertures therein. / ここでは、光源は、開口のアレイを有するパターン化されたスライドの前に配置される。(USP7589825)
$$ Both electrical and mechanical patterning systems were used to identify the most simple yet versatile knitting structure design. / 電気的及び機械的なパターン化装置の双方を使用して、最も簡単であるが多目的の編み構造デザインを特定した。(USP6228312)
$$ Patterning processes, as described above, may also be used to pattern other circuitry components, such as, but not limited to, interconnects, resistors and capacitors. (USP7629261)
目次はこちら
※このブログではブログの持ち主が承認した後、コメントが反映される設定です。