DEFINE 定義する・画成する・区画する
2011年06月20日
目次はこちら
DEFINE 定義する・画成する・区画する
$$ As defined herein the total pore volume of a sample of the units is the volume of mercury intruded into the sample at a pressure corresponding to intrusion of all open pores of diameter greater than 3.5 nm. / 本明細書において定義する、ユニット試料の全細孔容積は、３．５ｎｍより大きな直径をもつ開放細孔すべてに押込むのに相当する圧力で試料に押込まれた水銀の容量である。(USP6261465)
$$ A, Gly, n and m are as defined in claim 1. / Ａ､Ｇｌｙ､ｎおよびｍは､請求項１で規定した通りである｡(USP03027873)
$$ There is thus defined between the latch 32 and the shield element 36 a narrow space through which the detent 24 is projected in the closed condition of the back plate shown as FIG. 6. / ラッチ３２と遮蔽部材３６の間にはこのように区画される狭い空間があり、そこを通って止め爪２４が、背面板が閉じる状態では突き出ており、それは図６に示される。(USP7628955)
$$ It should be noted that the size and position of each cell is defined with reference to the earth's surface and not to a satellite beam. / 注意すべきことは､各セルの大きさ及び位置は地表に対して定められるのであり､衛星ビームに対して定められるのではないことである｡(USP01046481)
$$ In this way the invention provides a method of reducing molecular ion interferences in plasma mass spectroscopy carried out in a spectrometer as defined above. / このようにして、本発明は、先に定義されたようなスペクトロメータで実行されるプラズマ質量分析において、分子イオン妨害を低減する方法を提供する。(USP01010354)
$$ A further mask 19, again generally a hard, mask, is then formed so as to define a grid or mesh pattern window 19a located centrally of the previous mask regions 18 as shown in FIG. 5. / 次に、同じく一般に硬質マスクである他のマスク１９を、図５に示すように先のマスク窓１８ｂの中心に位置する格子状又はメッシュ状窓１９ａを画成するよう形成する。(USP5527720)
$$ The areas to be etched away are defined by a mask which needs to be aligned with respect to the spaces between the parallel gate tracks. / エッチング除去すべき区域は並列ゲート細条間のスペースに対し整列する必要のあるマスクによって画成する。(USP5384266)
$$ The open ends 4 of the second inlet means of the pumps 5 and the nozzles 6 open into a channel 7 defined between opposite side walls 8, 9.(USP5382115)
$$ Light from planes outside the focal plane which contains the focal point 19 would be scattered into a broader line, such as defined between the lines 46 in FIG. 3.(USP5510894)
目次はこちら
DEFINE 定義する・画成する・区画する
$$ As defined herein the total pore volume of a sample of the units is the volume of mercury intruded into the sample at a pressure corresponding to intrusion of all open pores of diameter greater than 3.5 nm. / 本明細書において定義する、ユニット試料の全細孔容積は、３．５ｎｍより大きな直径をもつ開放細孔すべてに押込むのに相当する圧力で試料に押込まれた水銀の容量である。(USP6261465)
$$ A, Gly, n and m are as defined in claim 1. / Ａ､Ｇｌｙ､ｎおよびｍは､請求項１で規定した通りである｡(USP03027873)
$$ There is thus defined between the latch 32 and the shield element 36 a narrow space through which the detent 24 is projected in the closed condition of the back plate shown as FIG. 6. / ラッチ３２と遮蔽部材３６の間にはこのように区画される狭い空間があり、そこを通って止め爪２４が、背面板が閉じる状態では突き出ており、それは図６に示される。(USP7628955)
$$ It should be noted that the size and position of each cell is defined with reference to the earth's surface and not to a satellite beam. / 注意すべきことは､各セルの大きさ及び位置は地表に対して定められるのであり､衛星ビームに対して定められるのではないことである｡(USP01046481)
$$ In this way the invention provides a method of reducing molecular ion interferences in plasma mass spectroscopy carried out in a spectrometer as defined above. / このようにして、本発明は、先に定義されたようなスペクトロメータで実行されるプラズマ質量分析において、分子イオン妨害を低減する方法を提供する。(USP01010354)
$$ A further mask 19, again generally a hard, mask, is then formed so as to define a grid or mesh pattern window 19a located centrally of the previous mask regions 18 as shown in FIG. 5. / 次に、同じく一般に硬質マスクである他のマスク１９を、図５に示すように先のマスク窓１８ｂの中心に位置する格子状又はメッシュ状窓１９ａを画成するよう形成する。(USP5527720)
$$ The areas to be etched away are defined by a mask which needs to be aligned with respect to the spaces between the parallel gate tracks. / エッチング除去すべき区域は並列ゲート細条間のスペースに対し整列する必要のあるマスクによって画成する。(USP5384266)
$$ The open ends 4 of the second inlet means of the pumps 5 and the nozzles 6 open into a channel 7 defined between opposite side walls 8, 9.(USP5382115)
$$ Light from planes outside the focal plane which contains the focal point 19 would be scattered into a broader line, such as defined between the lines 46 in FIG. 3.(USP5510894)
目次はこちら
※このブログではブログの持ち主が承認した後、コメントが反映される設定です。