THUS
2016年03月24日
車馬駄馬田 at 08:00 | Comments(0) | thus
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$$ The narrow size distribution in the invention is obtainable in the direct product of the described process, and thus it is not necessary to sieve or otherwise fractionate the bead product to obtain this distribution. / 本発明における狭い粒径分布は､記載した方法の直接生成物で得ることができ､したがって､この分布を得るためにビーズ生成物をふるい分けしたり､他の方法で分別する必要はない｡(USP6277932)
$$ Thus it is possible to make cylindrical ingot, or ingot of square or rectangular cross-section, and even to extrude a rectangle of high aspect ratio, i.e., plate. / このように、筒形インゴット、または正方形もしくは四角形断面のインゴットを製造し、ならびに高アスペクト比の四角形、すなわち板を押出すことも可能である。(USP6763682)
$$ In that case culling is operated upstream of the transform projection module, thus being more efficient than 4D culling; (USP7236169)
$$ By way of a non-restrictive example, on a 0.35 micron CMOS process, a usable 5 GHz non-overlapping clock signal should result with transmission-line loop length (S/2) of 9 mm for a phase velocity of 30% of speed-of-light, as determined by capacitive shunt loading distribution and dielectric constants, the total length (S), of the conductor 17 thus being 18 mm. / 非限定的な一例として、０．３５ミクロンのＣＭＯＳプロセス上で、使用可能な５ＧＨｚの非重複クロック信号が、高速の３０％の位相速度に対して９ｍｍの伝送線ループ長（Ｓ／２）で得られる。これは、容量性分路負荷分散および誘電係数によって決定され、導体１７の全長（Ｓ）はしたがって１８ｍｍとなる。(USP6816020)
$$ At idling speed the air inlet port 120 extends from A to B in FIGS. 3 and 11, but plate 123 moves to position 123a at full throttle thus to extend the air inlet to position D. / 空転速度では、空気入口ポート１２０は（図３および図１１において）ＡからＢまで延在されるが、プレート１２３は全絞りの位置１２３ａへ移動されるので、空気入口は位置Ｄへ延在される。(USP6296462)
$$ By contrast, in the present design, the optical path length increment between channels is a function of channel number, i.e. the optical path lengths of the channels progress in non-equal steps with channel number, thus to provide a non-linear phase profile. / これに反して、本発明の設計において、チャンネル間の光路長さのインクレメントは、チャンネル数の関数である、すなわち、チャンネルの光路長さは、チャンネル数と共に、不同一のステップにて増し、これにより、非線形の位相プロファイルを提供する。(USP6339664)
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$$ The narrow size distribution in the invention is obtainable in the direct product of the described process, and thus it is not necessary to sieve or otherwise fractionate the bead product to obtain this distribution. / 本発明における狭い粒径分布は､記載した方法の直接生成物で得ることができ､したがって､この分布を得るためにビーズ生成物をふるい分けしたり､他の方法で分別する必要はない｡(USP6277932)
$$ Thus it is possible to make cylindrical ingot, or ingot of square or rectangular cross-section, and even to extrude a rectangle of high aspect ratio, i.e., plate. / このように、筒形インゴット、または正方形もしくは四角形断面のインゴットを製造し、ならびに高アスペクト比の四角形、すなわち板を押出すことも可能である。(USP6763682)
$$ In that case culling is operated upstream of the transform projection module, thus being more efficient than 4D culling; (USP7236169)
$$ By way of a non-restrictive example, on a 0.35 micron CMOS process, a usable 5 GHz non-overlapping clock signal should result with transmission-line loop length (S/2) of 9 mm for a phase velocity of 30% of speed-of-light, as determined by capacitive shunt loading distribution and dielectric constants, the total length (S), of the conductor 17 thus being 18 mm. / 非限定的な一例として、０．３５ミクロンのＣＭＯＳプロセス上で、使用可能な５ＧＨｚの非重複クロック信号が、高速の３０％の位相速度に対して９ｍｍの伝送線ループ長（Ｓ／２）で得られる。これは、容量性分路負荷分散および誘電係数によって決定され、導体１７の全長（Ｓ）はしたがって１８ｍｍとなる。(USP6816020)
$$ At idling speed the air inlet port 120 extends from A to B in FIGS. 3 and 11, but plate 123 moves to position 123a at full throttle thus to extend the air inlet to position D. / 空転速度では、空気入口ポート１２０は（図３および図１１において）ＡからＢまで延在されるが、プレート１２３は全絞りの位置１２３ａへ移動されるので、空気入口は位置Ｄへ延在される。(USP6296462)
$$ By contrast, in the present design, the optical path length increment between channels is a function of channel number, i.e. the optical path lengths of the channels progress in non-equal steps with channel number, thus to provide a non-linear phase profile. / これに反して、本発明の設計において、チャンネル間の光路長さのインクレメントは、チャンネル数の関数である、すなわち、チャンネルの光路長さは、チャンネル数と共に、不同一のステップにて増し、これにより、非線形の位相プロファイルを提供する。(USP6339664)
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