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REMOVAL

2015年01月11日

 車馬駄馬田 at 08:00 | Comments(0) | rem...

REMOVAL

$$ More specifically, to passivate the sidewalls, a thin layer of silicon dioxide 28 is deposited over the entire structure before removal of the resist that is on top of the mesas. / さらに詳しく言えば、側壁を不動態化するため、メサ頂部のレジストを除去する前に、二酸化珪素の薄層28を構造体全体に堆積させる。(USP7598149)

$$ Removal of the former and sintering is then carried out as above. / フォーマの取り出しと焼結を上のように実施する。(USP6833656)

$$ Removal of the energisation from the device results in the legs resuming their parallel and touching relationship. / この装置から励起を解除すると、これら脚部は、互いに平行で接触した関係に戻る。(USP6568293)

$$ Removal of local pedestal components results in the curve 35b which is contained within a third dynamic range of Ba to Bb. / 局所的ペデスタル成分を除去すると、第3のダイナミックレンジBa~Bb内に含まれる曲線35bがもたらされる。(USP6414294)

$$ They are responsible for removal of the call records which are maintained by the functions which model services and destinations. / これらは、サービスおよび宛先をモデル化する機能によって維持される呼記録を除去することができる。(USP6330313)

$$ The present invention avoids the need for this removal of cured ink. / 本発明は、このような硬化したインクを除去する必要性を回避する。(USP6267052)

$$ This allows easy removal of the polymeric material through dissolution or etching. / このことは、溶解処理によりポリマー物質を除去するのを容易にする。(USP6229411)

$$ The washing process may be repeated to ensure complete removal of modified binder. / 洗浄工程は変性結合剤の完全な除去が確実に行われるように繰り返す。(USP6197252)

$$ Thus the etching occurs down to the polysilicon gate and down to the silicon substrate without removal of silicon by the etch. / すなわち、ポリシリコンゲートまでエッチングし、次にシリコンを除去する事なくシリコン基板まで下降する事ができる。(USP5541434)

$$ The aqueous solution may be heated to facilitate the removal of binder from the article. / 物品からの結合剤の除去を促進するため、水溶液は加熱してもよい。(USP6197252)

$$ A lubricator as claimed in claim 3, in which the open channel is profiled so as to inhibit its unintentional removal from a guide wire. (USP6554808)

$$ The panel 14 can then be shifted with respect to the panel 12 to facilitate removal of the squared tab from the lower slot. (USP5800280)

$$ Member 62 is the substrate for core 8 during and after removal of the GaAs. (USP01022495)

$$ Results are provided in Table A below wherein the diameter of the image after removal of the non-image area is noted. (USP6138567)

$$ The presence of the lid 9 ensures that a flat top surface layer 22 is formed after removal of the lid, as shown in FIG. 5. / ふた9の存在は、図5に示すように、ふたの取り外し後に平らな上部表面層22を形成するのを確実にする。(USP6699767)




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