CONSISTENT WITH
2011年03月19日
車馬駄馬田 at 08:00 | Comments(0) | con...
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CONSISTENT WITH
$$ It has been suggested that, to maximise the heat transfer coefficient and to minimise the interaction factor between adjacent gas streams, the distance (a) between the gas nozzle orifice and the surface should be as large as possible so far as is consistent with the loss of velocity of the gas stream over distance. / 熱伝達係数を最大にし、かつ隣接ガス流間の相互作用の要因を最小にするためには、全距離にわたるガス流の速度の減少に見合う限りはガスノズルオリフィスと表面との距離(a)はできるだけ大きくなければならない。(USP01020503)
$$ Any process consistent with the handling properties of the film can be used. / その膜の操作特性に適合した任意のプロセスが使用可能である。(USP5801796)
$$ This observation is consistent with the theory that the carboxymethyl groups are mainly located in amorphous rather than crystalline regions. / この観測は、カルボキシメチル基が結晶領域よりも非晶領域に主として存在するという理論と一致する。(USP6548730)
$$ The possibility is envisaged of achieving highest possible operating frequencies consistent with disconnectable switching of logic circuitry, including as semiconductor fabrication technology is bound to develop. / 発展が期待される半導体製造技術を含み、論理回路の切断可能なスイッチと一致する可能な限り最も高い動作周波数を達成する可能性も考えられる。(USP6816020)
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$$ It has been suggested that, to maximise the heat transfer coefficient and to minimise the interaction factor between adjacent gas streams, the distance (a) between the gas nozzle orifice and the surface should be as large as possible so far as is consistent with the loss of velocity of the gas stream over distance. / 熱伝達係数を最大にし、かつ隣接ガス流間の相互作用の要因を最小にするためには、全距離にわたるガス流の速度の減少に見合う限りはガスノズルオリフィスと表面との距離(a)はできるだけ大きくなければならない。(USP01020503)
$$ Any process consistent with the handling properties of the film can be used. / その膜の操作特性に適合した任意のプロセスが使用可能である。(USP5801796)
$$ This observation is consistent with the theory that the carboxymethyl groups are mainly located in amorphous rather than crystalline regions. / この観測は、カルボキシメチル基が結晶領域よりも非晶領域に主として存在するという理論と一致する。(USP6548730)
$$ The possibility is envisaged of achieving highest possible operating frequencies consistent with disconnectable switching of logic circuitry, including as semiconductor fabrication technology is bound to develop. / 発展が期待される半導体製造技術を含み、論理回路の切断可能なスイッチと一致する可能な限り最も高い動作周波数を達成する可能性も考えられる。(USP6816020)
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